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湿式蚀刻加工和干式蚀刻加工

湿式蚀刻加工低本钱、高可靠性、高产能及优胜的蚀刻挑选比。但相对于干式蚀刻,除了无法定义较细的线宽外,湿式蚀刻仍有以下的缺点:

1) 干式蚀刻加工需花费较高本钱的反响溶液及去离子水;

2) 干式蚀刻加工化学药品处理时人员所遭受的安全问题;

3) 干式蚀刻加工光阻附着性问题;

4) 干式蚀刻加工气泡构成及化学蚀刻液无法彻底与晶圆外表触摸所形成的不彻底及不均匀的蚀刻;

5) 干式蚀刻加工废气及潜在的爆炸性。

湿式蚀刻加工进程可分为三个进程:

1) 化学蚀刻加工液分散至待蚀刻资料之外表;

2) 蚀刻液与待蚀刻加工资料发作化学反响;

3) 反响后之产品从蚀刻加工的资料之外表分散至溶液中,并随溶液排出(3)。

三个进程中进行最慢者为速率控制进程,也就是说该进程的反响速率即为全部反响之速率。

大部份的蚀刻加工进程包含了一个或多个化学反响进程,各种形态的反响都有可能发作,但常遇到的反响是将待蚀刻加工层外表先予以氧化,再将此氧化层溶解,并随溶液排出,如此重复进行以到达蚀刻的作用。如蚀刻硅、铝时便是使用此种化学反响方式。

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